Hafnia tetraklorido | HfCl4-pulvoro | CAS 13499-05-3 | fabrika prezo

Mallonga Priskribo:

Hafnia tetraklorido havas gravajn aplikojn kiel antaŭulo de hafnia oksido, katalizilo por organika sintezo, nukleaj aplikoj, kaj maldika filmdemetado, elstarigante ĝian versatilecon kaj gravecon en diversaj teknologiaj kampoj.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Produkta Priskribo

Mallonga enkonduko

Produkta Nomo: Hafnia tetraklorido
CAS-numero: 13499-05-3
Formulo de la kombinaĵo: HfCl4
Molekula pezo: 320.3
Aspekto: Blanka pulvoro

Specifo

Ero	Specifo
Aspekto	Blanka Pulvoro
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Apliko

Hafnia Dioksida AntaŭuloHafnia tetraklorido estas ĉefe uzata kiel antaŭulo por produkti hafnian dioksidon (HfO2), materialon kun bonegaj dielektrikaj ecoj. HfO2 estas vaste uzata en alt-k dielektrikaj aplikoj por transistoroj kaj kondensatoroj en la duonkondukta industrio. HfCl4 estas esenca en la fabrikado de progresintaj elektronikaj aparatoj pro sia kapablo formi maldikajn filmojn de hafnia dioksido.
Organika sinteza kataliziloHafnia tetraklorido povas esti uzata kiel katalizilo por diversaj organikaj sintezaj reakcioj, precipe olefina polimerigo. Ĝiaj Lewis-acidaj ecoj helpas formi aktivajn intermediatojn, tiel plibonigante la efikecon de kemiaj reakcioj. Ĉi tiu apliko estas valora en la produktado de polimeroj kaj aliaj organikaj kombinaĵoj en la kemia industrio.
Nuklea AplikoPro sia alta neŭtrona sorba sekco, hafnia tetraklorido estas vaste uzata en nukleaj aplikoj, precipe en reguligaj stangoj de nukleaj reaktoroj. Hafnio povas efike absorbi neŭtronojn, do ĝi estas taŭga materialo por reguligi la fisioprocezon, kio helpas plibonigi la sekurecon kaj efikecon de nuklea energioproduktado.
Maldika Filma DeponadoHafnia tetraklorido estas uzata en kemiaj vaporaj deponaj (CVD) procezoj por formi maldikajn filmojn de hafnio-bazitaj materialoj. Ĉi tiuj filmoj estas esencaj en diversaj aplikoj, inkluzive de mikroelektroniko, optiko kaj protektaj tegaĵoj. La kapablo deponi unuformajn, altkvalitajn filmojn igas HfCl4 valora en progresintaj fabrikadaj procezoj.