Hafnium Tetrachloride | HFCL4 Pulvoro | CAS 13499-05-3 | fabrika prezo

Mallonga Priskribo:

Hafnium -tetraklorido havas gravajn aplikojn kiel pioniro de hafnia rusto, katalizilo por organika sintezo, nukleaj aplikoj kaj maldika filmo -deponejo, emfazante ĝian versatilecon kaj gravecon en diversaj teknologiaj kampoj.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Produkta Priskribo

Mallonga Enkonduko

Produkta Nomo: Hafnium -tetraklorido
Cas No .: 13499-05-3
Kompona formulo: HFCL4
Molekula pezo: 320.3
Aspekto: Blanka Pulvoro

Specifo

Ero	Specifo
Aspekto	Blanka pulvoro
HFCL4+ZRCL4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Apliko

Hafnium -dioksida pioniro: Hafnium -tetraklorido estas ĉefe uzata kiel pioniro por produkti hafnium -dioksidon (HFO2), materialon kun bonegaj dielektraj proprietoj. HFO2 estas vaste uzata en alt-K-dielektraj aplikoj por transistoroj kaj kondensiloj en la duonkondukta industrio. HFCL4 estas esenca en la fabrikado de altnivelaj elektronikaj aparatoj pro sia kapablo formi maldikajn filmojn de hafnia dioksido.
Organika Sinteza Katalizilo: Hafnium -tetraklorido povas esti uzata kiel katalizilo por diversaj organikaj sintezaj reagoj, precipe olefin -polimerigo. Ĝiaj Lewis -acidaj ecoj helpas formi aktivajn intermediojn, tiel plibonigante la efikecon de kemiaj reagoj. Ĉi tiu apliko estas valora en la produktado de polimeroj kaj aliaj organikaj komponaĵoj en la kemia industrio.
Nuklea Apliko: Pro ĝia alta neŭtrona absorba sekcio, hafnia tetraklorido estas vaste uzata en nukleaj aplikoj, precipe en kontrolaj bastonoj de nukleaj reaktoroj. Hafnium povas efike sorbi neŭtronojn, do ĝi estas taŭga materialo por reguligi la fisian procezon, kiu helpas plibonigi la sekurecon kaj efikecon de nuklea energio.
Maldika Filma Deponejo: Hafnium-tetraklorido estas uzata en kemiaj deponejoj (CVD) procezoj por formi maldikajn filmojn de hafnium-bazitaj materialoj. Ĉi tiuj filmoj estas esencaj en diversaj aplikoj, inkluzive de mikroelektroniko, optiko kaj protektaj tegaĵoj. La kapablo deponi uniformajn, altkvalitajn filmojn faras HFCL4 valora en altnivelaj fabrikadaj procezoj.